适用领域
处理半导体、 TFT-LCD 、太阳光电非晶硅 薄膜制造工程及其他污染源产生的残留的 PFCs(NF3, CHF3, SF6, CF4, C2F6, C3F8, c-C4F8 等全氟化物)。
产品特点
形状
反应原理
Gas | Mechanism |
---|---|
NF3, CHF3, SF6, CF4, C2F6, C3F8, c-C4F8 | XFn +M → MF + XO(XO2) |
XFn + H2O → HF + XO(XO2) |
PFC Destruction – Effects of PFC