Lĩnh vực ứng dụng
Công đoạn chế tạo chất bán dẫn, công đoạn sản xuất TFT-LCD, xử lý chất tồn đọng PFCs(các hóa chất như NF3, CHF3, SF6, CF4, C2F6, C3F8, c-C4F8) phát sinh trong quá trình chế tạo xử lý màng mỏng silicon không kết tinh pin mặt trời và nguồn phát sinh khác
Đặc tính sản phẩm
Appearance
Cơ chế phản ứng
Gas | Mechanism |
---|---|
NF3, CHF3, SF6, CF4, C2F6, C3F8, c-C4F8 | XFn + M → MF + XO(XO2) |
XFn + H2O → HF + XO(XO2) |
PFC Destruction – Effects of PFC