Lĩnh vực ứng dụng
Dùng để loại bỏ các khí như HCl, HF, HBr, BCl3 quá trình cấy ion(Ion Implant), quá trình ashing, quá trình Epi, quá trình lắng đọng hóa học (CVD)
Đặc tính sản phẩm
Appearance
Cơ chế phản ứng
Gas | Mechanism | TLV (ppm) |
---|---|---|
BCl3 | BCl3 + 3MOH → 3MCl + B(OH)3 | 5 |
BCl3 + 3MO(OH) → 3MOCl + B(OH) | ||
HBr | 2HBr + M(OH)2 → MBr2+ 2H2O | 3 |
HCl | 3HCl + MO(OH) →MCl3 + 2H2O | 5 |
HF | 6HF + M2O3 → 2MF3 + 3H2O | 3 |
SiH4 | SiH4 + 2MOH →M2Si + 2H2O + H2 | 5 |