Lĩnh vực ứng dụng
Dùng để loại bỏ các khí như SiH4, quá trình cấy ion(Ion Implant), quá trình ashing/etching, quá trình Epi, quá trình lắng đọng hóa học (CVD)
Đặc tính sản phẩm
Appearance
Cơ chế phản ứng
Gas | Mechanism | TLV (ppm) |
---|---|---|
SiH4 | SiH4 + 2MOH → M2Si + 2H2O + H2 | 5 |