Area penerapan
Proses implant ion(ion implant), proses pengabuan(ashing), proses epi, proses pengendapan uap kimia(CVD), penyaring gas asam seperti Cl2, F2 dan lain-lain
Kekhususan produk
Appearance
Mekanisme reaksi
Gas | Mechanism | TLV (ppm) |
---|---|---|
Cl2 | Cl2 + 2MOH → 2MCl + H2O + 1/2O2 | 1 |
Cl2 + M(OH)2 → MCl2 + H2O + 1/2O2 |